Please use this identifier to cite or link to this item: http://cmuir.cmu.ac.th/jspui/handle/6653943832/39499
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.advisorผู้ช่วยศาสตราจารย์ ดร.สรรฐติชัย ชีวสุทธิศิลป์-
dc.contributor.authorเสน่ห์ ยาวิชัยen_US
dc.date.accessioned2016-08-19T08:54:45Z-
dc.date.available2016-08-19T08:54:45Z-
dc.date.issued2015-03-
dc.identifier.urihttp://repository.cmu.ac.th/handle/6653943832/39499-
dc.description.abstractThe objective of this study was to find the optimum process in order to polish an outer edge glass for a hard disk product. A company found that here was a problem about the productivity which was down 30.7% after changes substrate thickness and up outer edge stock removal. As a result it was late to deliver the products to customer; because daily output is not what the producer is expecting. The researcher has been trying to increase more productivity of outer edge polishing process by using Design of Experiment technique. From studying the outer edge polishing process, the researcher learns from a machine's guide book and references. Thus, picking 7 factors to create factional factorial design 2IV7-3. And, the factors of outer edge removal parameter are A, B and D. The factors of defective are A, B, C, D, F and G. Furthermore, the factors of outer edge physical characteristics are A and F. But, the result of outer polishing rate is less than the target. So, the researcher brings factors A, B and D to test by steepest accent technique which is the highest climbing to find an appropriate factor for creating factional factorial design 2IV6-2 again for find optimal condition of Outer Edge polishing process. Finally, after using the right sources, the result of productivity was increased by 36.9% before the development plan was created. It helps the outer edge polishing run smoothly and strict to the plan. Manufacturer can control goods to customer on time.en_US
dc.language.isothen_US
dc.publisherเชียงใหม่ : บัณฑิตวิทยาลัย มหาวิทยาลัยเชียงใหม่en_US
dc.titleการหาสภาวะที่เหมาะสมที่สุดในกระบวนการขัดขอบนอกแผ่นแก้วสำหรับผลิตภัณฑ์ฮาร์ดดิสก์en_US
dc.title.alternativeOptimization of Outer Edge Glass Polishing Process for Hard Disk Producten_US
dc.typeIndependent Study (IS)
thesis.degreemasteren_US
thesis.description.thaiAbstractบริษัทผู้ผลิตแผ่นแก้วสำหรับฮาร์ดดิสก์แห่งหนึ่งต้องการปรับเปลี่ยนความหนาของแผ่นแก้วให้มีความหนาเพิ่มขึ้นและเพิ่มปริมาณขัดออกให้มากขึ้นกว่าเดิม 25% ส่งผลให้เวลาขัดนานขึ้นและกระทบต่อผลผลิตที่ได้ต่อเครื่องต่อวันของกระบวนการขัดขอบนอกโดยลดลงจากเดิม 30.7% นอกจากนี้ยังส่งผลกระทบโดยตรงต่อการส่งมอบงานให้กับลูกค้าเนื่องจากผลผลิตที่ได้ในแต่ละวันไม่เป็นไปตามแผนการผลิตที่ตั้งไว้ ผู้วิจัยจึงได้ตั้งวัตถุประสงค์การค้นคว้าในงานวิจัยนี้เพื่อเพิ่มผลผลิตของกระบวนการขัดขอบนอก โดยประยุกต์ใช้เทคนิคการออกแบบการทดลองเพื่อหาสภาวะที่เหมาะสมที่สุดของกระบวนการขัดขอบนอก จากการศึกษากระบวนการขัดขอบนอกโดยศึกษาจากคู่มือของเครื่องจักรและเอกสารการปฏิบัติงานจึงทำการคัดเลือกปัจจัยทั้งหมด 7 ปัจจัยมาทำการออกแบบการทดลองแบบแฟคทอเรียลเชิงเศษส่วนแบบ 2IV7-3 เพื่อคัดกรองปัจจัยที่มีผลต่อผลตอบ โดยปัจจัยที่มีผลต่อพารามิเตอร์การขัดออกคือ A B และ D ปัจจัยที่มีผลต่อผลตอบรอยตำหนิคือ A B C D F และ G ส่วนปัจจัยที่มีผลต่อคุณลักษณะทางกายภาพขอบนอก คือ A และ F แต่เนื่องจากผลตอบอัตราการขัดออกได้ค่าทำนายที่สภาวะที่เหมาะสมต่ำกว่าเป้าหมายที่ตั้งไว้ จึงนำปัจจัย A B และ D มาทำการทดลองด้วยวิธีพื้นผิวผลตอบโดยการปีนด้วยความชันสูงสุดเพื่อหาช่วงของปัจจัยที่เหมาะสมและนำปัจจัยที่มีผลต่อผลตอบทั้งหมดมาทำการออกแบบการทดลองแบบแฟคทอเรียลเชิงเศษส่วนแบบ 2IV6-2 อีกครั้งเพื่อหาสภาวะที่เหมาะสมของกระบวนการขัดขอบนอก หลังจากที่นำสภาวะที่เหมาะสมไปปรับใช้พบว่าสามารถเพิ่มผลผลิตของกระบวนการขัดขอบนอกได้ 36.9% เมื่อเทียบกับข้อมูลก่อนการปรับปรุง ช่วยให้การผลิตของกระบวนการขัดขอบนอกเป็นไปตามแผนงานที่วางแผนไว้และสามารถส่งมอบงานให้กับลูกค้าได้ตามเวลาที่กำหนดen_US
Appears in Collections:ENG: Independent Study (IS)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
ABSTRACT.docxAbstract (words)180.08 kBMicrosoft Word XMLView/Open    Request a copy
ABSTRACT.pdfAbstract179.03 kBAdobe PDFView/Open
FULL.pdfFull IS3.88 MBAdobe PDFView/Open    Request a copy


Items in CMUIR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.