Please use this identifier to cite or link to this item: http://cmuir.cmu.ac.th/jspui/handle/6653943832/34300
Title: Implanted and activated carbon distribution profiles in silicon: ion beam synthesis of silicon carbide = รูปแบบการกระจายของสารเจือคาร์บอนที่ถูกฝังและถูกกระตุ้นในซิลิกอน: การสังเคราะห์ซิลิกอนคาร์ไบด์ด้วยวิธีไอออนบีม / Saweat Intarasiri
Authors: Saweat Intarasiri
Authors: Saweat Intarasiri
Keywords: Silicon;Silicon carbide;Silicon carbide -- Testing
Issue Date: 2007
Publisher: Chiang Mai : Graduate School, Chiang Mai University, 2007
Gov't Doc #: Th 546.683 S271I
URI: http://search.lib.cmu.ac.th/search/?searchtype=.&searcharg=b1420033
http://cmuir.cmu.ac.th/handle/6653943832/34300
Appears in Collections:SCIENCE: Theses



Items in CMUIR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.